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多弧离子镀膜工作原理

发布网友 发布时间:2022-04-25 00:02

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热心网友 时间:2023-10-16 07:43

多弧离子镀膜是一种通过电弧放电和离子轰击的原理,在基材表面沉积出金属膜的技术。其基本工作原理如下:
1. 准备工作:将靶材(通常为金属)放置在真空室内,然后抽取空气,制造出高真空环境。
2. 电弧放电:使用高能量直流脉冲等方式加热靶材,引起金属表面产生高温等离子体,并将金属原子和离子释放到真空室中。
3. 离子轰击:通过调节离子加速器和磁控系统,使释放的金属离子在真空室中形成离子束,并以较高的能量轰击基底表面。在离子轰击的作用下,基底表面的原子得到激发,与金属离子之间发生反应,从而沉积出厚度0.1微米到数百微米不等的纯金属膜层。注意:在多弧离子镀膜的过程中,也可以添加其他气体或化合物来制备复合膜层,使金属膜层具有多种特殊性质。
4. 结束工作:完成离子轰击后,停止加热靶材,将沉积在基底表面的薄膜脱离真空室。
多弧离子镀膜具有高纯度、高致密度、厚度均匀性好等特点,同时还可以制备出不同颜色、不同组成的复合膜层,因此被广泛应用于光学、电子、机械等领域。

热心网友 时间:2023-10-16 07:43

多弧阴极根据靶材的不同,能够稳定工作的电流是不一样的,例如:如果是Cr靶,可以在60A左右就可以稳定工作,Ti靶在70A左右可以稳定工作,Zr的稳弧电流稍高一些,大约在100A左右,阴极的工作电压在20V-30V之间. 镀膜时,比如你要做TIC黑膜,就必须选用Ti靶,TI的工作电流在70A,工作电压在25V左右,需要向真空室内充入C2H2气体,镀膜时的真空度要保持在0.5Pa左右,一般情况下,是用分子泵或者扩散泵来抽取这些气体,使得真空室保持一定的压力,此时的滑阀泵和罗茨泵充当分子泵或者扩散泵的前级泵,是一直要开着的.

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